Pekka Laukkanen
peklau@utu.fi ORCID-tunniste: https://orcid.org/0000-0003-4220-985X |
pintatiede; puolijohde; pinnan passivointi; ohutkalvot
Pekka
Laukkanen obtained his MSc degree in 2000 at Tampere University of Technology
in the field of optoelectronics. He completed his PhD thesis in 2005 in the
area of surface physics at University of Turku. He is now working at interface
between surface science and semiconductor technology, trying to improve interconnection and collaboration between these fields. His expertise area
includes photoelectron spectroscopy, scanning tunneling microscopy, electron
diffraction, surface passivation, interface defects, and semiconductor technology. Laukkanen has published
130 refereed articles, four book chapters, and three patents.
We have investigated surface properties: chemical, electronic, and structural ones of semiconductor crystals including silicon (Si), germanium (Ge), and III-V compound semiconductors (e.g. GaAs, GaN, InAs, InP) by means of electron diffraction (LEED, RHEED), scanning tunneling microscopy and spectroscopy (STM/STS), and photoelectron spectroscopy (including synchrotron sources). One goal has been to develop the connection or collaboration between the surface science and the semiconductor technology disciplines. More recently we have focused on the question how to decrease surface-related electrical losses and malfunctions in various semiconductor-based devices like capacitors, sensors, solar cells, and transistors. We have tried to understand reasons for formation of defect levels in device surfaces and to find controlled methods to decrease the amount of defect levels.
Recently I have teched the following courses at the University of Turku:
- Phases and properties of materials (Aineen olomuodot ja ominaisuudet)
- Electrical properties of solids (Kiinteän aineen sähköiset ominaisuudet)
- Semiconductors (Puolijohteet)
- Semiconductor spectroscopy (method course)
- A Detailed Examination of Polysilicon Resistivity Incorporating the Grain Size Distribution (2025)
- IEEE Transactions on Electron Devices
(A1 Vertaisarvioitu alkuperäisartikkeli tieteellisessä lehdessä ) - Area-Dependent Resistive Switching and Interfacial Dynamics in GCMO-Based Memristors (2025)
- ACS applied electronic materials
(A1 Vertaisarvioitu alkuperäisartikkeli tieteellisessä lehdessä ) - Effects of ultra-high vacuum treatments on n-type Si contact resistivity (2025)
- Applied Surface Science
(A1 Vertaisarvioitu alkuperäisartikkeli tieteellisessä lehdessä ) - Passivation of Germanium Surfaces by HF:H2O2 Aqueous Solution (2025)
- physica status solidi (RRL) - Rapid Research Letters
(A1 Vertaisarvioitu alkuperäisartikkeli tieteellisessä lehdessä ) - Bridging the gap between surface physics and photonics (2024)
- Reports on Progress in Physics
(A2 Vertaisarvioitu katsausartikkeli tieteellisessä lehdessä) - Dry cleaning of InSb surfaces by hydrogen molecule exposure in ultrahigh vacuum (2024)
- Applied Surface Science
(A1 Vertaisarvioitu alkuperäisartikkeli tieteellisessä lehdessä ) - Modeling the Influence of Deposition Parameters on the Crystalline Degree in the Simulation of Polycrystalline Silicon (2024)
- physica status solidi (b)
(A1 Vertaisarvioitu alkuperäisartikkeli tieteellisessä lehdessä ) - Polycrystalline silicon, a molecular dynamics study: I. Deposition and growth modes (2024)
- Modelling and Simulation in Materials Science and Engineering
(A1 Vertaisarvioitu alkuperäisartikkeli tieteellisessä lehdessä ) - Polycrystalline silicon, a molecular dynamics study: II. Grains, grain boundaries and their structure (2024)
- Modelling and Simulation in Materials Science and Engineering
(A1 Vertaisarvioitu alkuperäisartikkeli tieteellisessä lehdessä ) - Atomic Level Chemical and Structural Properties of Silicon Surface and Initial Stages of Oxidation (2023)
- Solid State Phenomena
(A4 Vertaisarvioitu artikkeli konferenssijulkaisussa) - Effects of Ultrahigh Vacuum Treatments on Wet Chemically Cleaned Si Surfaces (2023)
- Solid State Phenomena
(A1 Vertaisarvioitu alkuperäisartikkeli tieteellisessä lehdessä ) - Efficient surface passivation of germanium nanostructures with 1% reflectance (2023)
- Nanotechnology
(A1 Vertaisarvioitu alkuperäisartikkeli tieteellisessä lehdessä ) - Plasma-enhanced atomic layer deposited SiO2 enables positive thin film charge and surface recombination velocity of 1.3 cm/s on germanium (2023)
- Applied Physics Letters
(A1 Vertaisarvioitu alkuperäisartikkeli tieteellisessä lehdessä ) - Properties and modification of native oxides of InP(100) (2023)
- Journal of Physics D: Applied Physics
(A1 Vertaisarvioitu alkuperäisartikkeli tieteellisessä lehdessä ) - Quantifying the Impact of Al Deposition Method on Underlying Al2O3/Si Interface Quality (2023)
- physica status solidi (a)
(A1 Vertaisarvioitu alkuperäisartikkeli tieteellisessä lehdessä ) - Reversible oxygen-driven c(4 x 4) ↔ (1 x 2) phase transition on the Ba/Ge (100) surface (RETRACTED) (2023)
- Applied Surface Science
(O2 Muu julkaisu ) - Surface Passivation of Germanium with ALD Al2O3: Impact of Composition and Crystallinity of GeOx Interlayer (2023)
- Crystals
(A1 Vertaisarvioitu alkuperäisartikkeli tieteellisessä lehdessä ) - Wet Chemical Treatment and Mg Doping of p-InP Surfaces for Ohmic Low-Resistive Metal Contacts (2023)
- Advanced Engineering Materials
(A1 Vertaisarvioitu alkuperäisartikkeli tieteellisessä lehdessä ) - Controlling the fixed negative charge formation in Si/high-k interfaces (2022)
- Physical Review Materials
(A1 Vertaisarvioitu alkuperäisartikkeli tieteellisessä lehdessä ) - Effects of post oxidation of SiO2/Si interfaces in ultrahigh vacuum below 450 °C (2022)
- Vacuum
(A1 Vertaisarvioitu alkuperäisartikkeli tieteellisessä lehdessä )