A4 Vertaisarvioitu artikkeli konferenssijulkaisussa

Effects of Ultrahigh Vacuum Treatments on Wet Chemically Cleaned Si Surfaces

Tekijät: Jahanshah Rad Zahra, Miettinen Mikko, Punkkinen Marko, Laukkanen Pekka, Kokko Kalevi, Vähänissi Ville, Savin Hele

Toimittaja: Paul Mertens, Antoine Pacco, Kurt Wostyn, Quoc Toan Le

Konferenssin vakiintunut nimi: Ultra Clean Processing of Semiconductor Surfaces

Kustantaja: Trans Tech Publications Ltd

Julkaisuvuosi: 2023

Journal: Solid State Phenomena

Kokoomateoksen nimi: Ultra Clean Processing of Semiconductor Surfaces XVI: Selected peer-reviewed full text papers from the 16th International Symposium on Ultra Clean Processing of Semiconductor Surfaces (UCPSS 2023)

Tietokannassa oleva lehden nimi: Solid State Phenomena

Sarjan nimi: Solid State Phenomena

Vuosikerta: 346

Aloitussivu: 57

Lopetussivu: 62

ISBN: 978-3-0364-0312-0

eISBN: 978-3-0364-1312-9

ISSN: 1012-0394

eISSN: 1662-9779

DOI: https://doi.org/10.4028/p-zJ2YOT

Verkko-osoite: https://doi.org/10.4028/p-zJ2YOT