Rapid low-temperature processing of metal-oxide thin film transistors with combined far ultraviolet and thermal annealing
: J. Leppäniemi, K. Ojanperä, T. Kololuoma, O.-H. Huttunen, J. Dahl, M. Tuominen, P. Laukkanen, H. Majumdar, A. Alastalo
: 2014
: Applied Physics Letters
: 113514
: 105
: 11
: 5
: 0003-6951
DOI: https://doi.org/10.1063/1.4895830