A1 Vertaisarvioitu alkuperäisartikkeli tieteellisessä lehdessä

Rapid low-temperature processing of metal-oxide thin film transistors with combined far ultraviolet and thermal annealing

Tekijät: J. Leppäniemi, K. Ojanperä, T. Kololuoma, O.-H. Huttunen, J. Dahl, M. Tuominen, P. Laukkanen, H. Majumdar, A. Alastalo

Julkaisuvuosi: 2014

Journal: Applied Physics Letters

Artikkelin numero: 113514

Vuosikerta: 105

Numero: 11

Sivujen määrä: 5

ISSN: 0003-6951

DOI: https://doi.org/10.1063/1.4895830