Vertaisarvioitu artikkeli konferenssijulkaisussa (A4)

Effects of Ultrahigh Vacuum Treatments on Wet Chemically Cleaned Si Surfaces

Julkaisun tekijät: Jahanshah Rad Zahra, Miettinen Mikko, Punkkinen Marko, Laukkanen Pekka, Kokko Kalevi, Vähänissi Ville, Savin Hele

Toimittaja: Paul Mertens, Antoine Pacco, Kurt Wostyn, Quoc Toan Le

Konferenssin vakiintunut nimi: Ultra Clean Processing of Semiconductor Surfaces

Kustantaja: Trans Tech Publications Ltd

Julkaisuvuosi: 2023

Journal: Solid State Phenomena

Kirjan nimi *: Ultra Clean Processing of Semiconductor Surfaces XVI: Selected peer-reviewed full text papers from the 16th International Symposium on Ultra Clean Processing of Semiconductor Surfaces (UCPSS 2023)

Tietokannassa oleva lehden nimi: Solid State Phenomena

Sarjan nimi: Solid State Phenomena

Volyymi: 346

Aloitussivu: 57

Lopetussivun numero: 62

ISBN: 978-3-0364-0312-0

eISBN: 978-3-0364-1312-9

ISSN: 1012-0394

eISSN: 1662-9779

DOI: http://dx.doi.org/10.4028/p-zJ2YOT

Verkko-osoite: https://doi.org/10.4028/p-zJ2YOT